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[半导体电子]——磁控溅射

人气：3884 文章出处： 发表时间：2017-11-13
  磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点
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